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抛光液对抛光工艺的影响

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  • 发布时间:2019-11-22 09:36
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【概要描述】抛光工艺的影响      ①温度:温度升高,加强了抛光液化学反应能力,抛光速率增加。但过高的温度会引起抛光 液的挥发,以及加快化学反应,表面腐蚀严重,因而会产生不均匀的抛光效果,使抛光质量下 降。   ②pH值:抛光液的pH值越高,碱性越强,反应速率越快。但pH值对被抛表面刻蚀、磨料的分 解与溶解度、抛光液的稳定性有很大的影响,从而影响材料的去除率和表面质量,因此应严格 控制。   ③压力:一般地

抛光液对抛光工艺的影响

【概要描述】抛光工艺的影响      ①温度:温度升高,加强了抛光液化学反应能力,抛光速率增加。但过高的温度会引起抛光 液的挥发,以及加快化学反应,表面腐蚀严重,因而会产生不均匀的抛光效果,使抛光质量下 降。   ②pH值:抛光液的pH值越高,碱性越强,反应速率越快。但pH值对被抛表面刻蚀、磨料的分 解与溶解度、抛光液的稳定性有很大的影响,从而影响材料的去除率和表面质量,因此应严格 控制。   ③压力:一般地

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抛光工艺的影响
 
 
    ①温度:温度升高,加强了抛光液化学反应能力,抛光速率增加。但过高的温度会引起抛光

 

挥发,以及加快化学反应,表面腐蚀严重,因而会产生不均匀的抛光效果,使抛光质量下

 

降。


    ②pH值:抛光液的pH值越高,碱性越强,反应速率越快。但pH值对被抛表面刻蚀、磨料的分

 

与溶解度、抛光液的稳定性有很大的影响, 从而影响材料的去除率和表面质量, 因此应严格

 

制。


    ③压力:一般地,压力越大,抛光速率越快。但是压力足够大时,抛光速率会略微下降,原

 

压力大,抛光垫承载抛光液能力下降。另外,压力大易形成破片现象。


    ④转速:转速增加,会引起抛光速率增加。但转速过高又会使抛光液在抛光垫上分布不均

 

匀,响抛光质量。


    ⑤抛光液浓度:抛光液的浓度增加时,去除率也随之增加,但当磨粒浓度超过某一值时,材

 

除率将停止增加,维持一个常数值,这种现象称为去除饱和。而且过高的浓度,有可能造

 

成表缺陷(划痕)增加,影响表面质量。

 

 

山东百特新材料有限公司成立于2009年,专注于生产高端硅溶胶、纳米分散液。

 

我们生产大粒径硅溶胶、小粒径硅溶胶、酸性硅溶胶、中性硅溶胶、阳离子硅溶胶、高纯度硅溶胶、非球形硅溶胶、改性硅溶胶、纳米二氧化硅抛光液等三十多种产品,广泛应用于电子、抛光、催化剂、造纸、纺织、陶瓷、耐火材料、精密铸造、涂料等行业,年产能20000吨。

 

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