
抛光液对抛光工艺的影响
- 分类:行业新闻
- 作者:
- 来源:
- 发布时间:2019-11-22 09:36
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【概要描述】抛光工艺的影响 ①温度:温度升高,加强了抛光液化学反应能力,抛光速率增加。但过高的温度会引起抛光 液的挥发,以及加快化学反应,表面腐蚀严重,因而会产生不均匀的抛光效果,使抛光质量下 降。 ②pH值:抛光液的pH值越高,碱性越强,反应速率越快。但pH值对被抛表面刻蚀、磨料的分 解与溶解度、抛光液的稳定性有很大的影响,从而影响材料的去除率和表面质量,因此应严格 控制。 ③压力:一般地
抛光液对抛光工艺的影响
【概要描述】抛光工艺的影响 ①温度:温度升高,加强了抛光液化学反应能力,抛光速率增加。但过高的温度会引起抛光 液的挥发,以及加快化学反应,表面腐蚀严重,因而会产生不均匀的抛光效果,使抛光质量下 降。 ②pH值:抛光液的pH值越高,碱性越强,反应速率越快。但pH值对被抛表面刻蚀、磨料的分 解与溶解度、抛光液的稳定性有很大的影响,从而影响材料的去除率和表面质量,因此应严格 控制。 ③压力:一般地
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- 发布时间:2019-11-22 09:36
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抛光工艺的影响
①温度:温度升高,加强了抛光液化学反应能力,抛光速率增加。但过高的温度会引起抛光
液的挥发,以及加快化学反应,表面腐蚀严重,因而会产生不均匀的抛光效果,使抛光质量下
降。
解与溶解度、抛光液的稳定性有很大的影响, 从而影响材料的去除率和表面质量, 因此应严格
控制。
因是压力大,抛光垫承载抛光液能力下降。另外,压力大易形成破片现象。
匀,影响抛光质量。
料去除率将停止增加,维持一个常数值,这种现象称为去除饱和。而且过高的浓度,有可能造
成表面缺陷(划痕)增加,影响表面质量。
山东百特新材料有限公司成立于2009年,专注于生产高端硅溶胶、纳米分散液。
我们生产大粒径硅溶胶、小粒径硅溶胶、酸性硅溶胶、中性硅溶胶、阳离子硅溶胶、高纯度硅溶胶、非球形硅溶胶、改性硅溶胶、纳米二氧化硅抛光液等三十多种产品,广泛应用于电子、抛光、催化剂、造纸、纺织、陶瓷、耐火材料、精密铸造、涂料等行业,年产能20000吨。 |
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