液的挥发，以及加快化学反应，表面腐蚀严重，因而会产生不均匀的抛光效果，使抛光质量下

降。

    ②pH值：抛光液的pH值越高，碱性越强，反应速率越快。但pH值对被抛表面刻蚀、磨料的分

解与溶解度、抛光液的稳定性有很大的影响， 从而影响材料的去除率和表面质量， 因此应严格

控制。

    ③压力：一般地，压力越大，抛光速率越快。但是压力足够大时，抛光速率会略微下降，原

因是压力大，抛光垫承载抛光液能力下降。另外，压力大易形成破片现象。

    ④转速：转速增加，会引起抛光速率增加。但转速过高又会使抛光液在抛光垫上分布不均

匀，影响抛光质量。

    ⑤抛光液浓度：抛光液的浓度增加时，去除率也随之增加，但当磨粒浓度超过某一值时，材

料去除率将停止增加，维持一个常数值，这种现象称为去除饱和。而且过高的浓度，有可能造

成表面缺陷(划痕)增加，影响表面质量。

山东百特新材料有限公司成立于2009年，专注于生产高端硅溶胶、纳米分散液。

我们生产大粒径硅溶胶、小粒径硅溶胶、酸性硅溶胶、中性硅溶胶、阳离子硅溶胶、高纯度硅溶胶、非球形硅溶胶、改性硅溶胶、纳米二氧化硅抛光液等三十多种产品，广泛应用于电子、抛光、催化剂、造纸、纺织、陶瓷、耐火材料、精密铸造、涂料等行业，年产能20000吨。