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纳米二氧抛光液的抛光原理
2023-03-29 09:45
纳米二氧化硅抛光液的抛光过程是在抛光机上实现的,如上图所示,在抛光过程中抛光垫和工件相对做旋转运动,抛光液(磨料)在旋转的抛光垫与工件之间流动,在一定压力、温度和转速作用下,发生化学机械抛光过程-简称CMP(Chemical Mechanical Polishing),因此抛光过程是在化学的和机械的综合作用下,使工件表面平整化(抛光)。
在抛光过程中,抛光液的主要作用:
①抛光作用,通过研磨、腐蚀、吸附反应物来实现。
②润滑作用。
③冷却降温作用。
④冲洗排渣作用。
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