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纳米二氧抛光液的抛光原理
2023-03-29 09:45
纳米二氧化硅抛光液的抛光过程是在抛光机上实现的，如上图所示，在抛光过程中抛光垫和工件相对做旋转运动，抛光液（磨料）在旋转的抛光垫与工件之间流动，在一定压力、温度和转速作用下，发生化学机械抛光过程-简称CMP(Chemical Mechanical Polishing)，因此抛光过程是在化学的和机械的综合作用下，使工件表面平整化（抛光）。
在抛光过程中，抛光液的主要作用：
①抛光作用，通过研磨、腐蚀、吸附反应物来实现。
②润滑作用。
③冷却降温作用。
④冲洗排渣作用。
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